1, 光刻机和刻蚀机的区别
刻蚀相对光刻要容易。光刻机把图案印上去，然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案（或者没有图案）的部分，留下剩余的部分。“光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆（或者叫硅片）上盖上事先做好的光刻板，然后用紫外线隔着光刻板对晶圆进行一定时间的照射。原理就是利用紫外线使部分光刻胶变质，易于腐蚀。“刻蚀”是光刻后，用腐蚀液将变质的那部分光刻胶腐蚀掉（正胶），晶圆表面就显出半导体器件及其连接的图形。然后用另一种腐蚀液对晶圆腐蚀，形成半导体器件及其电路。光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动1.手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了；2.半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐；3.自动： 指的是 从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。参考资料：百度百科-光刻机，百度百科-刻蚀
2, 蚀刻机,啥叫光刻机,啥叫光栅刻画
蚀刻机可以分为化学蚀刻机及电解蚀刻机两类。在化学蚀刻中是使用化学溶液，经由化学反应以达到蚀刻的目的，化学蚀刻机是将材料用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。光刻机（Mask Aligner） 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography（光刻） 意思是用光来制作一个图形（工艺）；在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时"复制"到硅片上的过程。光栅刻画：光学中光栅最通常的作用是色散。光栅刻划是制作光栅的方法之一。蚀刻机
世界上最顶端的光刻机来自荷兰阿斯麦的极紫外光光刻设备，差不多1.2亿美元一台，还垄断着世界高端光刻机市场，像现在最先进制程的7纳米，有的国家有钱也是买不到的。那么为什么这种世界高科技光刻机公司不在美国，而在荷兰呢？首先最重要的这种技术并不是美国搞不出来。二，是荷兰阿斯麦生产的光刻设备，一些重要部件来自世界很多国家，比如最重要的光源技术来自美国的一家公司，镜头来自德国等，这里又有美国公司参与控制。总的来说世界最高端的光刻机虽然在荷兰，但是被美国控制着。
名词解释
光刻机
光刻机（Mask Aligner）是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。其分为两种，一种是模板与图样大小一致的contact aligner，曝光时模板紧贴晶圆；另一种是利用类似投影机原理的stepper，获得比模板更小的曝光图样。高端光刻机被称为“现代光学工业之花”，制造难度很大，全世界只有少数几家公司能制造。
荷兰
荷兰王国（荷兰语：Koninkrijk der Nederlanden，英语为The Kingdom of the Netherlands，简称The Netherlands）是由荷兰、阿鲁巴、库拉索和荷属圣马丁4个构成国组成的君主立宪制的复合国。政府的权力仅限于国防、外交、国籍和引渡，除了上述权力以外，各构成国皆有完全的自主权和自治权。 该国位于欧洲西偏北部，是著名的亚欧大陆桥的欧洲始发点，与德国、比利时接壤，国土面积为41528平方公里，首都设在阿姆斯特丹。荷兰王国是世界上地势最低的国家之一，有四分之一的国土低于海平面，被称为“低洼之国”。
光刻
光刻(photoetching)是通过一系列生产步骤，将晶圆表面薄膜的特定部分除去的工艺。光刻生产的目标是根据电路设计的要求，生成尺寸精确的特征图形，并且在晶圆表面的位置正确且与其它部件（parts）的关联正确。
