1, 中国7nm技术成功了吗
半导体行业本身是个高科技行业，半导体行业从上游到下游，依次又有材料和设备、芯片设计、芯片制造、芯片产品封测等行业。在芯片设计行业中，国内最具代表性的芯片设计厂商当是华为旗下的海思半导体莫属。据IC Insights之前对外公布的数据，到2017年，海思半导体的营收就已经增长到47.2亿美金，在该年中的研发投入也直逼10亿美金。在芯片制造（晶圆代工）行业中，在中国大陆地区排名第一的本土厂商则是中芯国际。目前，中芯国际最为先进并已投入量产的工艺是28nm工艺。预计到了2019年，中芯国际有望投产14nm工艺。不可否认的是，在芯片设计和制造两大行业中，本土厂商与国际厂商相比仍然有些差距。在材料与设备行业中，国内本土厂商仍须奋力追赶国际领先同行。不过，中微半导体倒是一个特例。日前，国内有不少媒体纷纷在网络上转发或分享了一段播放时长约5分钟的视频内容，该段视频来自央视。2018年3月3日晚间，据央视纪录片《大国重器》讲述：位于上海的中微半导体，已经研发出了7nm刻蚀机，这标志着中国本土厂商自主研发的芯片制造设备终于与世界最先进水平保持同步了。目前，芯片制造行业最大的代工厂商台积电已经开发出可量产的7nm制程工艺，并在业界居于领先水平。而在7nm工艺设备方面，台积电有五大设备供应商，分别是应用材料、科林研发、东京威力科创、日立先端和中微半导体。换言之，中微半导体是唯一一家来自中国大陆的半导体设备厂商，且为台积电供应7nm刻蚀机台。显然，中微半导体自主研制的设备是深受台积电认可的。刻蚀机不同于光刻机。光刻机是激光将掩膜版上的电路临时复制到硅晶圆片上，刻蚀机是按光刻机在硅片上刻好的电路结构，在硅片上进行微观雕刻，以刻出沟槽或者接触空。中微半导体研制的7nm刻蚀机台，所采用的是等离子体刻蚀技术，台积电等芯片制造厂商利用该设备，可以在硅片上雕刻出微观电路。中微半导体研发的7nm刻蚀机中，有着名为气体喷淋盘的核心部件。另有媒体这样报道：“气体喷淋盘是刻蚀机最重要的核心部件之一，也是7纳米芯片刻蚀机中的一项关键技术点。它的材料选择和设计对于刻蚀机性能指标的影响至关重要。中微和国内厂家合作，研制和优化了一整套采用等离子体增强的物理气象沉积金属陶瓷的方法，这种创新的方法极大地改善了材料的性能，其晶粒更为精细、致密，缺陷几乎为零。相比国外当前采用的喷淋盘，中国的陶瓷镀膜喷淋盘寿命可以延长一倍，造价却不到五分之一。”中国本土厂商能够研制出可与世界最先进水平同步的刻蚀机，与中微半导体的创始人尹志尧，以及该公司的技术骨干们是分不开的。尹志尧曾经在美国应用材料（半导体设备行业中的龙头老大）担任过副总裁，并参与领导了几代刻蚀机的研发工作，在美国工作期间就持有了86项专利。十三年前，当时已经60岁的尹志尧决心放弃优越的物质待遇，离开美国并回国创业。有媒体直接引用过尹志尧说过的一句话：“给外国人做嫁衣已经做了很多事情了，那我们应该给自己的祖国和人民做一些贡献，所以就决心回来了。”当时，跟随尹志尧一起，从美国回到中国的，还有大约三十位资深工程师，这些工程师曾经在应用材料、科林研发等半导体设备厂商中有过二、三十年的研发和制造经验。尹志尧等人从美国回国之际，美方要求所有的技术专家都不得把美国公司的技术如设计图纸、工艺过程等一并带回国内，还对这些技术专家们所持有的600万份文件和个人电脑做了彻底清查。尹志尧及其团队回到国内以后，于2004年在上海创立中微半导体，并从零开始研发和制造刻蚀机等设备。2008年，中微半导体的刻蚀机进入国际市场。然而应用材料和科林研发实在难以接受中微半导体能在短短3年左右的时间里研发出高端刻蚀机的事实，先后向中微半导体提起专利诉讼，最终这两次旷日持久的专利诉讼都以中微半导体胜诉而告终。2015年，美国商业部下属的工业安全局特别对外发布一则公告称，由于中国本土厂商已能够研制出具备国际竞争力的等离子刻蚀机，决定把等离子刻蚀机从美国对中国限制的技术设备名单上去除。到了今天，中微半导体的设备产品已经远销欧洲、韩国、新加坡、台湾等地，且在原材料方面同样取得了局部性的突破。最后，引用尹志尧在央视纪录片中的说的话：“我国正在成为集成电路芯片和微观器件生产的大国，到2020年，在我国新的芯片生产线上的投资将会超过美国、日本和韩国等地区的投资，中国会变成一个最大的芯片生产基地。我们相信到2030年，我国的芯片和微观器件的加工能力和规模一定能完全赶上并在不少方面超过国际先进水平。”
3, 目前哪个公司的纳米处理器最小,有多小
“纳米”是物质的长度单位，等于十亿分之一米！8月29日在北京召开的第七届中国国际纳米科学技术会议上公布的一项研究报告显示，中国已经成为世界纳米科技研发大国，部分基础研究跃居国际领先水平。“纳米”是物质的长度单位，等于十亿分之一米。物质小到纳米尺度时，它在电子学、光学、力学等方面可能表现出超越、乃至迥异于大尺度物质的特点。纳米尺度使得原本色彩黯淡的物体在纳米尺度下会呈现五彩斑斓，轻如蝉翼的薄片会变得坚韧似钢，优良的导体会变成绝缘体，普通的材料会发电发光……纳米科技已被公认是最重要、发展最快的前沿领域之一，这也标志着一个科技新纪元--纳米科技时代的开始。
名词解释
芯片
集成电路（英语：integrated circuit，缩写作 IC），或称微电路（microcircuit）、微芯片（microchip）、晶片/芯片（chip）在电子学中是一种把电路（主要包括半导体设备，也包括被动组件等）小型化的方式，并时常制造在半导体晶圆表面上。
光刻机
光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System. 一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。 Photolithography（光刻） 意思是用光来制作一个图形（工艺）； 在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。
纳米
纳米（nm），是nanometre的译名，即为毫微米，是长度的度量单位，国际单位制符号为nm。1纳米=10的负9次方米，长度单位如同厘米、分米和米一样，是长度的度量单位。1纳米相当于4倍原子大小，比单个细菌的长度还要小的多。国际通用名称为nanometer，简写nm。
