1, 光刻机为什么中国人自己不会做,核心技术是什么
光刻机中国能制造，但是精度不如国外。中国科学院成都光机所和四十五所，能制造接近接触式光刻机。上海微电子装备有限公司能够制造投影式光刻机。在LED、IC后道和平板显示的微米级光刻机都有不少销量。IC前道光刻机分辨力要求较高，目前只能制造百纳米或几十纳米级别光刻机，而国外已经推出13纳米的光刻机了。核心技术包括投影物镜、精密运动台和精密测量系统等。对于最先进的光刻机，关键的镜片、传感器和电机等依靠进口。
2, 中国国产的光刻机最小制程能达到多少？
目前是INTEL的32NM，不过INTEL已经准备22NM了.光刻机.32nm制程目前用的是193nm沉浸式光刻技术具Intel透露，计划要将193nm沉浸式光刻技术沿用到11nm节点制程当然，光刻技术还有极紫外光刻技术，不过还处在实验阶段，显然INTEL目前不怎么看好这个技术 LS，现在INTEL的I3和I5 6XX就是32NM的CPU核心+45NM的GPU核心，I7 980X也是32NM制程
名词解释
光刻机
光刻机（Mask Aligner）是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。其分为两种，一种是模板与图样大小一致的contact aligner，曝光时模板紧贴晶圆；另一种是利用类似投影机原理的stepper，获得比模板更小的曝光图样。高端光刻机被称为“现代光学工业之花”，制造难度很大，全世界只有少数几家公司能制造。
纳米
纳米（nm），是nanometre的译名，即为毫微米，是长度的度量单位，国际单位制符号为nm。1纳米=10的负9次方米，长度单位如同厘米、分米和米一样，是长度的度量单位。1纳米相当于4倍原子大小，比单个细菌的长度还要小的多。国际通用名称为nanometer，简写nm。
IC
伦敦帝国理工学院（Imperial College London）是一所世界顶尖公立研究型大学，建立于1907年，是英国罗素大学集团、欧洲研究型大学联盟和国际科技大学联盟成员，是世界最具创新力大学之一。 其设有工程学院、自然科学学院、医学院和商学院四个学院，提供本科和研究生教育。
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